新闻资讯

NEWS CENTER

20

2026

-

01

ACS|基于哌嗪间隔基的双胺调控孔结构与性能复合膜:盐与染料分离

作者:


英文题目:

Piperazine Spacer-Based Co-Diamine-Tailored Pore Structure and Performance of Thin-Film Composite Membranes: Salt and Dye Fractionation  

中文题目:

基于哌嗪间隔基的双胺调控孔结构与性能复合膜:盐与染料分离  

期刊信息:ACS Applied Materials & Interfaces  发表日期:2025 年 12 月 15 日

doi: 10.1021/acsami.5c19717  

摘要内容:

传统聚哌嗪酰胺(poly(PIP))纳滤膜对二价 Na₂SO₄ 截留高,导致在染料/盐分离时需高压运行,易引发膜污染。本研究在 0.1 % PIP 水相中仅加入微量(0.02–0.03 %)含 PIP 间隔基的新型伯胺 PDA,通过界面聚合调控聚酰胺网络。PDA 延长胺-胺距离并降低链柔性,在膜内生成 3–8 %、2–3 nm 的少量大孔,使膜转为疏松纳滤(LNF)。所得 LNF-0.03-PDA 膜在 Direct Red 80 + Na₂SO₄ 混合液中水通量比纯 PIP 膜提高约 200 %,同时对 Congo Red 和 Direct Red 80 保持 99.9 % 截留,且在高盐条件下稳定、低污染。  

研究背景与意义:

纺织废水含高浓度 Na₂SO₄/NaCl 与染料,传统 PIP 纳滤膜因高盐截留需 6–10 bar 操作,能耗大、易污染。过去十年,学者尝试用丝胶、单宁、氨基酸等低活性单体或聚酯-聚酰胺共聚制备疏松 NF,但通量-选择性始终难兼顾;且线性二胺与 PIP 共聚往往孔径缩小、盐截留升高。本研究首次提出“PIP 间隔基刚性伯胺”概念,设计 PDA 共单体,仅 ppm 级添加即可把传统 PIP-NF 转为 LNF,实现“低压(1.5 bar)高通量+染料零泄漏+盐低截留”,为染料脱盐资源化提供可工业放大新路线。  

实验步骤:  

1) PDA 合成:马来酸酐(0.29 mol)溶于 50 mL 甲醇,滴加 PIP(0.058 mol)45 °C 反应 12 h,旋蒸得白色加合物;取该加合物(0.0038 mol)溶于 2 mL 甲醇,加入乙二胺(0.038 mol)40 °C 反应 12 h,旋蒸、正己烷洗涤得 PDA,产率 92 %。  

2) 界面聚合:聚砜 UF 基底先浸入 20 °C 水相——PIP 0.1 % (w/v) + PDA 0.02–0.03 % (w/v) 20 s,橡胶辊除多余液体;随后接触 0.125 % TMC/正己烷 45 s;70 °C 热处理 3 min,得厚度 52–56 nm 聚酰胺选择层。对照组分别用 0.03 % 乙二胺/丁二胺/己二胺替代 PDA。  

3) 性能评价:错流装置(14.5 cm²,40–50 L h⁻¹),压力 1.5–5.2 bar,盐浓度 2–50 g L⁻¹,染料 0.02–1 g L⁻¹;通量、截留、MWCO、孔径、ζ 电位、AFM/SEM、XPS、抗污染循环均按 SI 标准方法测定。  

主要结果与结论:

纯水通量:LNF-0.03-PDA 45 L m⁻² h⁻¹ bar⁻¹,比 PIP 纯膜提升 73 %;在 50 g L⁻¹ Na₂SO₄ + 1 g L⁻¹ DR-80 体系中通量提升 200 %。

截留率:DR-80/CR ≥ 99.9 %(盐浓度 0–50 g L⁻¹),Na₂SO₄ 截留仅 18–25 %,盐/染料选择性系数 485–1083,远优于对照线性二胺膜(<100)。

 稳定性:1.5–4.5 bar 循环、48 h 连续过滤、pH 3–11 浸泡后性能无衰减;水冲洗后通量恢复率 97 %,染料吸附量 <1 mg g⁻¹。

结论:PDA 通过刚性哌嗪椅式构象抑制孔塌缩,引入少量 2–3 nm 大孔并增加表面 –COO⁻ 密度,同步实现“高通量-低盐截-高染料截-低污染”,为纺织废水资源化提供可直接放大的膜技术。  

详细机理:

PDA 的哌嗪环保持椅式构象,胺-胺距离 1.85 nm,大于 PIP(0.29 nm),导致与 TMC 形成的酰胺节点间距增大;同时 PDA 与 PIP 间氢键形成“PIP-PDA 簇”,降低胺扩散速率,使界面聚合初期局部 PIP 浓度下降,无法形成传统 NF 致密网络,继而生成的 PA 交联密度降低,留下 3–8 % 的 2–3 nm 大孔。PDA 伯胺反应活性高于 PIP,后期扩散至有机相的过量 –COCl 被水解为 –COO⁻,膜表面负电位从 –30 mV 增至 –39 mV,对同电荷染料产生静电排斥;而较小 SO₄²⁻ 因尺寸小于孔径且电荷屏蔽效应,截留显著下降。刚性 PIP 间隔基抑制溶胀-干燥循环中的孔塌缩,维持大孔稳定开放;膜表面粗糙度与亲水性同步提高,降低染料沉积,最终实现低压、高倍浓缩、零染料泄漏的盐-染料高效分馏。

 

原文链接:https://mp.weixin.qq.com/s/zgDOvXIq-fkxHSKAk0b63A